如何正确清洗硅片？

硅片作为半导体电子行业中的关键材料，其纯度和质量对电子产品性能具有重要影响。

那么如何正确清洗硅片呢？以下是具体步骤：

1. 准备材料：去离子水、氢氧化钠、无尘抹布；

2. 开始清洗：将硅片放入去离子水中浸泡；

3. 清洗：将浸泡后的硅片放进氢氧化钠中清洗10分钟，然后再放入去离子水中继续清洗30分钟，直至表面干净；

4. 擦拭：用无尘抹布轻轻擦拭表面，去除水滴；

5. 烘干：将硅片放在烘干箱中烘干至完全干燥即可。

总的来说，正确清洗硅片需要注意保持一定的温度和湿度，避免硅片表面出现损伤或残留。同时，操作过程中需要佩戴手套和口罩，以保证操作者的安全。